我院陈蓉教授受邀赴荷兰出席ASD 2017大会并作特邀报告

作者:Adrie Mackus 翻译:曹坤       发布于:2017-04-25 10:50:00       浏览次数:644次

4月20日至21日,第二届区域选择性沉积研讨会(The 2nd Area Selective Deposition workshop , ASD 2017)在荷兰埃因霍温举行,我院陈蓉教授受邀出席,并在大会上作了题为“基于区域选择性原子层沉积催化剂纳米颗粒设计与可控制备 (Design and synthesis of catalytic nanoparticles via area selective atomic layer deposition)”的报告。

        大会上,陈蓉教授首先指出,在催化剂的研究中,设计优化活性、稳定性和选择性的催化剂至关重要。随后,她提到区域选择性原子层沉积(ALD)能够为催化剂设计与精细合成拓展思路,还结合自己课题的工作谈到,基底上的选择性ALD沉积可以通过自组装单分子膜(SAM)完成,证明了SAM可用于调控基底表面活性位点与生长区域,实现金属纳米颗粒以及双金属核壳颗粒可控制备(K. Cao et al., Sci. Rep. 5,8470,2015)。以这种方式,该课题组另一项工作将氧化钴(Co3O4)沉积在铂(Pt)纳米颗粒周围,作为一种纳米陷阱,致使Pt纳米粒子的热稳定性大大提高(X. Liu et al., Angew. Chem. 129,1670,2017)。

此外,陈蓉教授在报告中提出了晶面选择性ALD的概念,即在颗粒在特定晶面上优先进行氧化物生长,与依赖于表面材料的选择性生长不同的是,这种ALD工艺对于基底的晶面取向是有选择性的。她指出,已有研究成果表明CeO2的晶面选择性ALD可用于在Pt纳米颗粒上产生纳米栅涂层。

最后,陈蓉教授总结到,根据目前在此方面的研究结果可以看出,选择性ALD是一种在模型催化剂研究中强有力的可控制备与研究方法。

此项目得到我院国际合作推进计划的经费支持。