陈修国
  •        姓名:陈修国

           电话:027-87558045

           职称:副教授

           邮箱:xiuguochen@hust.edu.cn


个人基本情况

    陈修国Chen Xiuguo, Associate Professor20136月博士毕业于华中科技大学机械电子工程专业,同年进入华中科技大学材料学院博士后流动站,20166月出站,留校工作。201612月至20188月期间,作为日本学术振兴会(JSPS)外国人特别研究员赴日本东北大学进行合作交流。

    主要从事纳米光学测量技术与仪器、集成电路(IC)制造在线测量技术与装备、新型椭偏仪研制与光电材料表征测量等方面的研究工作。近年来,作为负责人主持国家自然科学基金2项,作为骨干人员参与国家自然科学基金重大科研仪器研制项目、首批国家重大科学仪器设备开发专项、国家科技重大专项等国家级科研项目10余项。申请和授权国际国内发明专项20余项,在Appl. Phys. Lett.Opt. ExpressOpt. Lett.等期刊发表SCI论文60余篇。曾获上银优秀机械博士论文奖、湖北省自然科学优秀学术论文一等奖、日内瓦国际发明金奖、湖北省技术发明一等奖、华中科技大学“学术新人奖”等荣誉。

    纳米光学测量研究中心主页http://nom.mse.hust.edu.cn


主要研究方向

1. 面向集成电路IC制造的纳米测量技术与装备

面向集成电路(IC)、发光二极管(LED)、有机显示(OLED)、光伏太阳能(PV)、柔性电子制造中的工艺控制和良率管理,研究纳米薄膜、纳米结构关键尺寸(CD)、套刻误差等三维形貌测量新原理,探索纳米颗粒、刮伤、断线、桥接等纳米缺陷检测新方法,解决IC制造纳米测量装备与缺陷检测装备中的“卡脖子”技术难题。

2. 新型椭偏仪研制与半导体光电材料表征测量

研制穆勒矩阵椭偏仪、成像椭偏仪、层析椭偏仪等新型椭偏仪器,实现石墨烯、过渡金属硫族化合物、黑磷、硅烯等新型二维材料,以及ICLEDOLEDPV、柔性电子等新型半导体光电材料的电学、光学、力学等物理特性表征测量。

开设课程

本科生课程:《数字电路》

             《数据库技术及应用》

研究生课程:《椭偏测量学导论》

近年的科研项目、专著与论文、专利、获奖

承担的科研项目:

1. 国家自然科学基金面上项目,51775217,基于离焦扫描穆勒显微镜的纳米结构缺陷检测理论与方法研究,2018-202160万元,在研,主持。

2. 国家自然科学基金青年基金,51405172,纳米结构几何参数广义成像椭偏测量理论与方法研究,2015-201725万元,已结题,主持。

3. 湖北省自然科学基金面上项目,基于层析穆勒矩阵散射仪的三维纳米结构测量理论与方法研究,2018CFB6052018-20195万元,在研,主持。

4. 华中科技大学-精测集团联合研发项目,纳米结构关键尺寸测量与缺陷检测关键技术研究,2019-2021500万元,在研,主持。

5. 国家自然科学基金重大科研仪器研制项目,51727809,高分辨层析成像穆勒矩阵椭偏仪研制与应用基础研究,2018-2022701万元,在研,参与。

6. 国家科技重大专项子课题,2017ZX02101006-004,套刻误差光学测量技术研究,2017-2020742万元,在研,参与。


近期学术论文:

[1]     H. Gu, X. Chen*, H. Jiang, Y. Shi, and S. Liu, "Wide field-of-view angle linear retarder with ultra-flat retardance response," Opt. Lett. 44, 3026-3029 (2019).

[2]    X. Chen*, J. Liao, H. Gu, Y. Shi, H. Jiang, and S. Liu, "Proof of principle of an optical Stokes absolute roll-angle sensor with ultra-large measuring range," Sens. Actuat. A 291, 144-149 (2019).

[3]    C. Chen, X. Chen*, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, "Calibration of polarization effect of a high-numerical-aperture objective lens with Mueller matrix polarimetry," Meas. Sci. Technol. 30, 025201 (2019).

[4]    Z. Yang, X. Chen*, H. Jiang, and S. Liu, "In-line wavefront aberration adjustment of a projection lens for a lithographic tool using the dominant mode method," Appl. Opt. 58, 4176-4184 (2019).

[5]    H. Gu, X. Chen*, Y. Shi, H. Jiang, C. Zhang, P. Gong, and S. Liu, “Comprehensive characterization of a general composite waveplate by spectroscopic Mueller matrix polarimetry,” Optics Express 26(19), 25408-25425 (2018).

[6]    C. Chen, X. Chen*, Y. Shi, H. Gu, H. Jiang, and S. Liu, “Metrology of nanostructures by tomographic Mueller-matrix scatterometry,” Applied Science 8(12), 2583 (2018).

[7]    Y. Tan, C. Chen, X. Chen*, W. Du, H. Gu, and S. Liu, “Development of a tomographic Mueller-matrix scatterometer for nanostructure metrology,” Review of Scientific Instruments 89, 073702 (2018)


完整论文列表,详见主页http://nom.mse.hust.edu.cn