叶冬
  •        姓名:叶冬

           电话:

           职称:讲师

           邮箱:yedong@hust.edu.cn

个人基本情况

       叶冬Ye Dong,Lecturer男,198711月生,湖北武汉人2011年和2016年于华中科技大学分别获得应用物理学学士学位、材料博士学位,随后进入华中科技大学机械工程博士后流动站工作。20199月博士后出站留校任教,在数字制造装备与技术国家重点实验室开展前沿科研工作。

主要从事智能蒙皮/共形天线/超材料/机器人电子皮肤等柔性曲面电子器件制造与应用、等离子-电流体复合增减材制造工艺等方面研究目前已在 Applied Physics LetterSmallMaterials Today PhysicsNanoscaleMaterials HorizonsNanotechnology等期刊发表 SCI 论文十余影响因子大于10的论3,入选ESI高被引论文1篇,获得授权国家发明专利 5 项。担任Nano LetterSmall中国科学等学术期刊的审稿人。主持国家自然科学基金青年项目1中国博士后科学基金面上项目1、华中科技大学创新研究院创新基金1项,排名第二参与国家自然科学基金面上项目1项。

                           

主要研究方向

柔性电子器件制造工艺、装备及应用

机器人化微纳增材制造技术与应用


近年的科研项目、专著与论文、专利、获奖

科研项目:

[1] 国基金青年项目:微等离子体射流静电聚焦机理及石墨烯超晶格制备,在研,主持;
[2] 国基金面上项目:太阳能聚光反射镜面微颗粒粘附机理与自清洁纳米薄膜共形制造,在研,第二负责人;
[3] 湖北省技术创新重大项目:柔性曲面电子共形喷印制造原理与装备,在研,参与;
[4] 国基金重点项目:柔性电子喷印制造中非牛顿流体液滴生成和冲击动力学研究,在研,参与;
[5] 科技部“变革性”项目:高性能印刷电子器件的高精度跨尺度喷印制造基础研究,在研,参与;
[6] 博后面上项目:微等离子体射流静电聚焦机理及石墨烯图案化改性研究,结题,主持;
[7] 博士创新基金:室温常压等离子体射流图案化刻蚀石墨烯的研究,结题,主持;
[8] 国基金青年项目:利用室温常压等离子体制备区域性氮掺杂石墨烯的结构和性能研究,结题,骨干成员;
[9] 国基金面上项目:金属玻璃及其液相的微观结构的核磁共振表征,结题,参与;
[10] 科技部“973项目”:电磁驱动高速变形下材料的微观结构演变规律及性能,结题,参与。


代表性论文(*表示通讯作者)

[1] D. Ye, J. T. Su, Y. Jiang, Z. P. Yin, Y. A. Huang*, Plasma-jet-induced programmable wettability on stretchable carbon nanotube films, Materials Today Physics, 2020, 14, 100227.(IF=10.443, JCR Q1)

[2] D. Ye, Y. J. Ding, Y. Q. Duan, J. T. Su, Z. P. Yin, Y. A. Huang*, Large-scale direct-writing of aligned nanofibers for flexible electronics, Small, 2018, 14, 1703521. (IF=11.459, JCR Q1)

[3] D. Ye, Y. Yu*, J. Tang, L. Liu, Y. Wu, Electrochemical activation of carbon cloth in aqueous inorganic salt solution for superior capacitive performance, Nanoscale, 2016, 8, 10406. IF=7.394, JCR Q1

[4] D. Ye, Y. Yu*, L. Liu, X. P. Lu, Y. Wu, Cold plasma welding of polyaniline nanofibers with enhanced electrical and mechanical properties, Nanotechnology, 2015, 26, 495302. IF=3.821, JCR Q1

[5] D. Ye, S. Q. Wu, Y. Yu*, L. Liu, X. P. Lu, Y. Wu, Patterned graphene functionalization via mask-free scanning of micro-plasma jet under ambient condition, Applied Physics Letters, 2014, 104, 103105. IF=3.302, JCR Q1


发明专利:

[1]  一种石墨烯图形化掺杂方法,2016.03.02,授权发明专利号:ZL201310692748.8.

[2]  一种用于增减材制造的一体化喷印装置, 2019.03.05, 授权发明专利号:ZL201710252260.1.

[3]  一种微等离子体刻蚀加工装置及方法, 2019.07.19, 授权发明专利号:ZL201710326311.0.

[4]  一种空间分布可调的阵列集成式喷印方法,2019.09.27,授权发明专利号:ZL201810898865.2.

[5]  一种等离子体束径可控的静电聚焦喷头装置及喷射方法, 2019.11.12, 授权发明专利号:ZL201810898129.7.


获奖情况

[1]  协助指导2016级、2017级硕士生获国家奖学金2/次;

[2]  协助指导硕士生获得ISFSE-IWSMM2019最佳海报奖(Best Poster Award1/次。