[设备]热蒸发仪系统

作者:       发布于:2016-11-01 08:00:00       浏览次数:
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中文名称:

热蒸发仪系统

英文名称:

Thermal evaporation instrument system

仪器编号:

01611679

仪器型号:

BOX-RH400

生产厂家:

中国科学院沈阳科学仪器有限公司

放置位置:

柔性电子制造实验室

功能介绍   

金属-有机薄膜蒸镀系统是一种利用电阻加热使膜材汽化蒸发后凝结在基片上成膜的加热镀膜方法,该方法结构简单、实用,使用可靠,适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作。

主要技术参数

·基片台尺寸:120mm×120mm,水冷基片台:室温~40℃;旋转速度020转/分钟可调,基片台可旋转;

·镀膜室用一台国产石英晶振膜厚监测仪进行薄膜厚度监测;

·镀膜生长室放置4个热阻蒸发舟,其中热阻盒式蒸发舟2组,控温式有机蒸发源1台,每个蒸发舟配有电动挡板;

·极限真空度(Pa)5×10*-5;

·样品基本尺寸:100mm×100mm;

·最高加热温度:800℃。

工艺要求

·耐热性好,基材必须能耐受蒸发源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。

·从薄膜基材上产生的挥发性物质要少;对吸湿性大的基材,在镀膜前理。

·基材应具有一定的强度和表面平滑度。

·对蒸镀层的粘接性良好;对于PP、PE等非极性材料,蒸镀前应进行表面处理、以提高与镀层的粘接性。