[设备]ALD&AFM双室系统

作者:       发布于:2018-10-12 15:26:03       浏览次数:

      undefined

中文名称:

ALD&AFM双室系统

英文名称

ALD & AFM Dual Chamber System

仪器编号:

01613045

仪器型号:

ALD-200

生产厂家:

沈阳科学技术有限公司

放置位置:

柔性电子制造实验室

  功能介绍    

ALD&AFM双室系统是一套将ALD反应腔室与AFM测试技术联用的系统,能够在ALD沉积的过程中对样品的表面进行实时的检测,从而能够很好的用于ALD沉积过程反应机理的研究。

  主要技术参数:

·内胆尺寸:450*450*450mm,300*300*300mm

·ALD反应腔室最高温度可达400℃

·配有原子力显微镜(安捷伦公司,型号为Agilent 5500 AFM/STM),扫描范围为X与Y方向均为90μm,Z方向为7μm

·样品加热温度可达900℃,并可实现原子级成像

  设备优势: 

·实现环境敏感样品的原位处理

·高分辨率原子级成像

·可控气氛温度的样品AFM测试