2024年6月22日上午，第十九届全国激光技术与光电子学学术会议于上海召开，我院刘世元、朱金龙教授团队研究成果获中国激光杂志社“主编推荐奖“。大会现场，上海光机所范滇元院士颁发荣誉证书。2023年度主编推荐奖是《中国激光》、《光学学报》、《激光与光电子学进展》三刊主编在2023出版的2400篇论文中，悉心遴选出的高水平文章，每刊4篇。
该获奖研究成果以《先进节点图案化晶圆缺陷检测技术》为题，发表在《激光于光电子学进展》期刊，我院博士后刘佳敏、博士生赵杭为共同一作。研究成果简述：随着亚 10 nm 集成电路芯片逐步进入消费电子、互联硬件、电子医疗设备等领域，由半导体制造设备所引入的晶圆缺陷对集成电路在良率与价格方面的影响将不断显现，由此带来的对典型缺陷进行高速识别、定位与分类等制造过程控制环节，将变得越来越具有挑战性。传统的晶圆缺陷检测方法包括明场、暗场及电子束成像方法，尽管能够覆盖绝大多数缺陷检测场景，但难以在检测精度、检测灵敏度和检测速度上取得较好的平衡。纳米光子学、计算成像、定量相位成 像、光学涡旋、多电子束扫描、热场成像以及深度学习等新兴技术的出现，在提升缺陷灵敏度、分辨率以及对比度等方面已初步展现出一定的潜力，这为晶圆缺陷检测提供了新的可能性。因此，本研究从缺陷的可检测性、缺陷检测系统与原理样机、先进图像后处理算法三个方面总结晶圆缺陷检测领域的最新进展，能够对初入该领域的研究人员和跨学科工作者提供一定助益。
该项工作得到了国家自然科学基金（52175509，52130504）、湖北省重点研发计划（2020BAA008）支持。
论文DOI：10.3788/LOP222824
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