2014年3月16至17日，在上海国际会议中心举行的2014年中国国际半导体技术大会(China Semiconductor Technology International Conference, CSTIC)上，华中科技大学机械科学与工程学院刘世元教授指导的博士生吕稳荣获大会最佳学生论文奖(Best Student Paper Award)。该获奖论文“Efficient and Robust Synthesis of Phase-Shifting Masks in Optical Lithography”针对半导体制造对光刻工艺不断提出的新挑战，提出了一种高效、鲁棒的移相掩模合成策略，在显著提高掩模合成计算速度的同时，增强了掩模可制造性并改善了工艺窗口。
CSTIC大会是中国规模最大、综合性最强的半导体技术年度大会，由国际半导体设备与材料协会(SEMI)和美国电化学会(ECS)主办，致力于促进中国半导体产业的发展。大会共设有12个技术分会，涵盖了半导体技术制造的各个方面，包括设备、设计、光刻、集成、材料、工艺、制造、以及新兴半导体科技等，分会从不同的专业领域，深入探讨全球IC设计与制造以及相关产业发展趋势和研究成果。大会设立的最佳学生论文奖旨在鼓励高校研究生开展前沿创新研究，获奖名单由大会组委会SEMI和ECS组织专家从所有分会中严格评选。包括吕稳同学在内，本次大会只有2名研究生获此殊荣。
吕稳同学来自刘世元教授领导的纳米光学测量研究组。该研究组主要致力于纳米测量相关的理论方法研究及仪器设备开发，特别是探索非接触、无损、高效的测量技术，如基于椭偏光谱的光学散射测量技术，旨在实现纳米制造工艺的可操纵性、可预测性、可重复性和可扩展性。研究组也同时研究光学光刻中的若干基础理论与关键技术问题，包括部分相干成像理论、三维掩模建模、光学临近校正、光源掩模优化、逆光刻技术、偏振像差建模与检测、波像差检测等。
（供稿：刘世元 网络编辑：张丽如）
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