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| 中文名称: | 光谱椭偏仪 |
英文名称: | Spectroscopic Ellipsometer |
仪器编号: | 01306782 |
仪器型号: | M-2000 |
生产厂家: | 美国J.A.Woollam |
放置位置: | 柔性电子制造实验室 |
功能介绍
椭偏仪利用椭偏术测量薄膜的光学膜层厚度和光学常数、半导体及其氧化物成分的折射率和厚度、润滑层的厚度和表面粗糙度等。椭偏仪测量精确度高、且不破坏薄膜。
技术特点:具有多种参数模型,如NK模型、柯西模型、EMA模型等。
1.测量的对象广泛,可以测量透明膜,无膜固体样品,多层膜,吸收膜和众多性能不同、厚度不同、吸收程度不同的薄膜,甚至是强吸收的薄膜。
2.被测量的薄膜大小尺寸可以很小,只要1mm即可测量,小于光斑的大小。
3.方式灵活,既可以测量反射膜,也可以测量透射膜v
4.测量的速度很快。
5.在各种粒子束分析测试技术中,光束引起的表面损伤以及导致的表面结构改变是最小的。
主要技术参数
·测量模式:基态上的非原位操作,腔体原位操作。
·波长范围:245-1000nm
·光源类型:FLS
·光源接收:Single
·光谱范围:193-1000nm,500个波长
·聚焦光斑尺寸:25μm X60μm
·最大样品尺寸:300mm直径;最大样品厚度:15mm
·软件:SENTECH控制软件, 包含图形界面,recipe控制操作,功能强大的recipe编辑器和数据资料记录。
应用范围
椭偏仪利用椭偏术测量薄膜的光学膜层厚度和光学常数、半导体及其氧化物成分的折射率和厚度、润滑层的厚度和表面粗糙度等;也可被用来监控粗糙多晶表面上的膜层生长,实现均匀镀膜等。涉及的材料涵盖各种不同材料(半导体、金属、电介质、有机物等),可以应用到物理、化学、材料学、微电子技术、薄膜技术、冶金学、天文学、生物和医学等方面。