[设备]离心流化式粉体ALD设备

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发布：2016-04-05

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	中文名称：	离心流化式粉体ALD设备
	英文名称：	Centrifugal Fluidized Powder ALD Devices
	仪器编号：
	仪器型号：
	生产厂家：	自搭
	放置位置：	柔性电子制造实验室

功能介绍

离心流化式粉体ALD设备用于对微米和纳米级颗粒的表面进行原子层沉积的改性。涉及的颗粒和包覆材料涵盖各种不同材料（半导体、金属、电介质、有机物等）。

技术特点：

1.沉积对象广泛,如各种二元氧化物薄膜沉积；

2.采用离心方法加剧团聚体碰撞,使内部颗粒表面暴露于反应环境中；

3.耦合流化方法分散颗粒,扩大颗粒间隙,促进前驱体扩散与接触；

4.方便的装样取样。

主要技术参数

·颗粒粒径范围：50 nm-800 μm

·颗粒批量处理量：max. 10 g

·前驱体：两路

·反应温度：RT-250℃

·转速：max.600 RPM

·流化流量：max.100 sccm

·软件：控制软件台达PLC；交互界面：LabView。

应用范围

可以应用到物理、化学、材料学、微电子技术、薄膜技术、冶金学、天文学、生物和医学等方面。